High Precision Chiller Heater – LNEYA Industrial Chillers Manufacturer Supplier

ETCU Series Heat Exchange Chiller without compressor

lneyaadmindy — Mon, 13 Jan 2025 06:49:30 +0000

고정밀 냉각기 히터

애플리케이션

Multi-channel independent temperature control can have independent temperature range, cooling and heating capacity, heat transfer medium flow, etc., using two independent systems, choose steam compression refrigeration according to the required temperature range, or use ETCU compressor-free heat exchange system, the system can use expansion tank, condenser, cooling water system, etc., which can effectively reduce the size of equipment and reduce the operation steps.

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제품 특징

먼저Temperature control range: 5℃～+90℃

둘째온도 제어 정확도: ±0.1℃

셋째Not applicable to compressors

넷째100% helium detection, 100% safety detection

제품 매개변수

모델	ETCU-005W	ETCU-015W	ETCU-030W	ETCU-050W	ETCU-100W	ETCU-200W	ETCU-300W
온도 범위	Cooling water temperature +5℃~90℃
온도 제어 정확도	±0.05℃（Steady state outlet temperature）
냉각수 온도	7℃~30℃ Cooling water flow is controlled by Siemens/Honeywell regulating valves
냉각 용량	5kW	15kW	30kW	50kW	100kW	200kW	300kW
	Test conditions: When the maximum circulation amount, the temperature difference between the temperature control temperature and the cooling water temperature is 15℃
순환 펌프	7~20L/min 5bar	15~40L/min 5bar	20~60L/min 5bar	40~110L/min 5bar	150~250L/min 5bar	250~500L/min 5bar	400~650L/min 5bar
탱크 용량	5L	10L	20L	30L	60L	120L	240L
치수 mm	480750390	480750390	480750500	Customization	Customization	Customization	Customization

Product Advantages

효율적인 생산 안정성 및 반복성 결과;
판형 열교환기와 파이프라인 히터를 사용하여 냉각 및 난방 속도를 개선합니다;
매우 넓은 온도 범위로 액체 매체를 교체할 필요가 없습니다;
완전 밀폐형 시스템으로 열 전도성 액체의 수명을 연장합니다;
마그네틱 드라이브 펌프를 채택하여 샤프트 씰 누수 문제가 없습니다;
고온 냉각 기술, 압축기를 직접 시동하여 300℃에서 냉각합니다.

애플리케이션

반도체 FAB 공정의 온도 제어 장치

반도체 제조는 환경 요건이 매우 까다로운 공정으로, 많은 공정 단계가 온도에 매우 민감합니다.
정밀한 온도 제어를 통해 증착된 필름의 균일한 두께와 정확한 구성을 보장하여 칩 성능과 수율을 향상시킬 수 있습니다.

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반도체 패키징 및 테스트 공정용

반도체 패키징 및 테스트 공정은 웨이퍼 테스트, 칩 패키징, 패키징 후 테스트 등 반도체 생산 공정의 핵심 연결고리입니다. 이 공정은 높은 수준의 정확성과 신뢰성뿐만 아니라 제품 품질과 성능을 보장하기 위해 엄격한 온도 관리가 필요합니다.

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Such as chillers that control the processing temperature on the Fab equipments.

Cooling of CMOS/CCD sensors in semiconductor metrology systems.

Recirculating Chiller for semiconductor metering AOI system.

주로 에칭 장비용으로 설계된 단일 채널 공랭식 쿨러입니다. 챔버 측벽에 독립적인 온도 제어를 제공하는 데 사용됩니다.

Used for plasma bevel etch and deposition; Thermal Atomic Layer Etching of Metal Tungsten.

가변 주파수 펌프는 순환 유압 및 유량을 조절할 수 있습니다.

client output signal

Communication function

LNEYA provides customized services

custom ETCU sizes

Whether it is portable, compact, large and small chillers, we can custom design them according to your requirements. No matter how many tons of chiller you need, we can create the best solution.

custom ETCU types

We provide chillers of various refrigeration types, including but not limited to air-cooled, water-cooled and evaporative-condensing chillers. Regardless of the type of refrigeration compressor, we can design it according to your requirements.

custom temperature ranges

We can create a custom solution for temperatures from -150℃ to +350℃. Custom temperature ranges for specific industries.

custom ETCU voltage

Customize chiller voltage and phase according to your needs. Optional 110V/60HZ, 220V/60HZ, 380V/50HZ, 220V/50HZ, 400V/50HZ, 460V/60HZ, 440V~480V/60HZ, etc.

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제품 추천

FLTZ Variable Frequency Series Multi-channel Chillers

lneyaadmindy — Mon, 13 Jan 2025 06:40:35 +0000

고정밀 냉각기 히터

애플리케이션

Semiconductor air cooling & water cooling Chiller is mainly used for precise temperature control in semiconductor production and testing. Products include fluid fluorinated liquid temperature control (minimum -100 degrees), gas hot and cold rapid temperature change, rapid temperature change chuck, low temperature gas refrigerator (-120 degrees), direct cooling refrigeration unit (-150 degrees), etc. The company applies a variety of algorithms (PID, feedforward PID, model-free self-building algorithm) in the system to achieve fast system response and high control accuracy.

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제품 특징

먼저Temperature control range: -45℃～+100℃
온도 제어 정확도: ±0.1℃

둘째Support dual-channel, three-channel, six-channel

셋째Combination of multiple algorithms, fast system response

넷째Air cooling and Water cooling are available

제품 매개변수

Tab 1
Tab 2
Tab 3
Tab 4
Tab 5

FLTZ -20℃～+90℃

모델	FLTZ-203W-2T
파이프라인	channel 1	channel 2
온도 범위	-20℃～+90℃	-20℃～+90℃
냉각 용량	4kW@-10℃	4kW@-10℃
난방 용량	2kW	2kW
열 전도성 매체 유량	20L/min@0.5MPa	20L/min@0.5MPa
Heat conducting medium connection size	ZG3/4	ZG3/4
주변 온도	10～35℃	10～35℃
주변 습도	30～70%	30～70%
Cooling water flow rate	15～20℃	15～20℃
냉각수 온도	20L/min	20L/min
회로 차단기	30A
무게	400kg
치수 cm	5009001600

FLTZ -45℃～+40℃

모델	FLTZ-406W/ETCU-015W
파이프라인	channel 1	channel 2
온도 범위	-45℃～+40℃	+10℃～+80℃
냉각 용량	11kW@-20℃ 5kW@-40℃	13kW@+10℃
난방 용량	2kW	6kW
열 전도성 매체 유량	17L/min@0.7MPa	17L/min@0.7MPa
Heat conducting medium connection size	ZG3/4	ZG3/4
주변 온도	10～35℃	10～35℃
주변 습도	30～70%	30～70%
Cooling water flow rate	15～20℃	15～20℃
냉각수 온도	40L/min	20L/min
회로 차단기	80A
무게	550kg
치수 cm	60010001850

FLTZ -10℃～+80℃

모델	FLTZ-203W/ETCU-008W
파이프라인	channel 1	channel 2	channel 3
온도 범위	-10℃～+60℃	+30℃～+80℃	-10℃～+80℃
냉각 용량	4kW@-10℃/21kW@+20℃	6 kW@+30℃	3kW@-10℃
난방 용량	4kW	4.5+6kW	3kW
열 전도성 매체 유량	17L/min@0.7MPa	17L/min@0.7MPa	17L/min@0.7MPa
Heat conducting medium connection size	ZG3/4	ZG3/4	ZG3/4
주변 온도	10～35 ℃	10～35 ℃	10～35 ℃
주변 습도	30～70%	30～70%	30～70%
Cooling water flow rate	15～20℃	15～20℃	15～20℃
냉각수 온도	30L/min@15~20℃	15L/min@15~20℃	15L/min@15~20℃
회로 차단기	100A
무게	600kg
치수 cm	60010001700

FLTZ -20℃～+50℃

모델	FLT-215W/ETCU-015W/ETCU-008W
파이프라인	channel 1	channel 2	channel 3
온도 범위	-20℃～+50℃	+30℃～+100℃	+30℃～+40℃
냉각 용량	15kW@-10℃	13kW@PCW+15℃	8kW@PCW+10℃
난방 용량	2kW	6kW	펌프 열 손실
열 전도성 매체 유량	30L/min@0.85MPa	30L/min@0.85MPa	20L/min@0.8MPa
Heat conducting medium connection size	ZG3/4	ZG3/4	ZG3/4
주변 온도	10～35 ℃	10～35 ℃	10～35 ℃
주변 습도	30～70%	30～70%	30～70%
Cooling water flow rate	15～20℃	15～20℃	15～20℃
냉각수 온도	30L/min@15~20℃	15L/min@15~20℃	15L/min@15~20℃
회로 차단기	75A
무게	600kg
치수 cm	60010001700

FLTZ -45℃~90℃

모델	FLTZ-203W/2T 듀얼 시스템		FLTZ-305W/2T 듀얼 시스템		FLTZ-406W/2T 듀얼 시스템
온도 범위	-20℃~90℃		-30℃~90℃		-45℃~90℃
열 전도성 매체 유량	최대 15~45L/min 6bar
난방 용량	2.5kW	2.5kW	2.5kW	2.5kW	3.5kW	3.5kW
냉각 용량	15℃에서 3kW	15℃에서 3kW	15℃에서 5kW	15℃에서 5kW	2.5kW(-35℃ 기준)	2.5kW(-35℃ 기준)
내부 순환 체액 용량	5L	5L	8L	8L	8L	8L
확장 탱크 용량	15L		25L		25L
열 전도성 매체	불소화 액체, 부동액, 열 전도성 실리콘 오일 등
냉매	R404A/R448
열 전도성 매체 인터페이스	ZG3/4
냉각수 인터페이스	ZG3/4
냉각수 인터페이스	20℃에서 50L/min		20℃에서 600L/min		20℃에서 50L/min
전원	3상 220V/3상 400V/3상 460V

Product Advantages

효율적인 생산 안정성 및 반복성 결과;
판형 열교환기와 파이프라인 히터를 사용하여 냉각 및 난방 속도를 개선합니다;
매우 넓은 온도 범위로 액체 매체를 교체할 필요가 없습니다;
완전 밀폐형 시스템으로 열 전도성 액체의 수명을 연장합니다;
마그네틱 드라이브 펌프를 채택하여 샤프트 씰 누수 문제가 없습니다;
고온 냉각 기술, 압축기를 직접 시동하여 300℃에서 냉각합니다.

애플리케이션

반도체 FAB 공정의 온도 제어 장치

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반도체 패키징 및 테스트 공정용

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Such as chillers that control the processing temperature on the Fab equipments.

Cooling of CMOS/CCD sensors in semiconductor metrology systems.

Recirculating Chiller for semiconductor metering AOI system.

주로 에칭 장비용으로 설계된 단일 채널 공랭식 쿨러입니다. 챔버 측벽에 독립적인 온도 제어를 제공하는 데 사용됩니다.

Used for plasma bevel etch and deposition; Thermal Atomic Layer Etching of Metal Tungsten.

가변 주파수 펌프는 순환 유압 및 유량을 조절할 수 있습니다.

client output signal

Communication function

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반도체 산업을 위한 FLTZ 가변 주파수 시리즈 냉각기

lneyaadmindy — Mon, 13 Jan 2025 05:09:38 +0000

고정밀 냉각기 히터

애플리케이션

Semiconductor temperature control unit Chiller is mainly used for precise temperature control in the semiconductor production process and testing process. The company applies multiple algorithms (PID, feedforward PID, model-free self-building algorithm) in the system to achieve fast system response and high control accuracy.

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제품 특징

먼저Temperature Range: -90~+100℃

둘째±0.05℃ (Outlet temperature steady state)

셋째Heating method within 40℃ uses compressor hot air heating

넷째Air cooling and Water cooling are available

제품 매개변수

Tab 1
Tab 2
Tab 3
Tab 4
Tab 5

FLTZ 5℃～90℃

모델	002 002W	003 003W	004 004W	006 006W	008 008W	010 010W	015 015W
온도 범위	5℃～90℃
Cooling capacity @10℃	6kW	8kW	10kW	15kW	20kW	25kW	40kW
Internal circulating fluid volume	4L	5L	6L	8L	10L	12L	20L
확장 탱크 용량	10L	10L	15L	15L	20L	25L	35L
냉매	R410A
Refrigerating medium	Silicone oil, fluorinated liquid, polyol aqueous solution, DI, etc. (DI temp needs to be controlled above 10 ℃)
연결 크기	ZG1/2	ZG1/2	ZG3/4	ZG3/4	ZG3/4	ZG1	ZG1
Cooling water connection size	ZG1/2	ZG1/2	ZG3/4	ZG1	ZG1	ZG1	ZG1 1/8
냉각수 흐름 @20℃	1.5m³/h	2m³/h	2.5m³/h	4m³/h	4.5m³/h	5.6m³/h	9m³/h
치수 cm	9503801055	9503801055	9503801055	9804301400	9804301400	10806001500	10806001500

FLTZ -25℃～90℃

모델	FLTZ-202 FLTZ-202W	FLTZ-203 FLTZ-203W	FLTZ-204 FLTZ-204W	FLTZ-206 FLTZ-206W	FLTZ-208 FLTZ-208W	FLTZ-210 FLTZ-210W	FLTZ-215 FLTZ-215W
온도 범위	-25℃～90℃
온도 제어 정확도	±0.05℃（Steady state outlet temperature）
흐름 제어	10~25L/min		15～45L/min			25～75L/min
Cooling capacity @-15℃	2kW	3kW	3.8kW	6kW	7.6kW	10kW	15kW
Internal circulating fluid volume	4L	5L	6L	8L	10L	12L	20L
확장 탱크 용량	10L	10L	15L	15L	20L	25L	35L
냉매	R404A
Refrigerating medium	Silicone oil, fluorinated liquid, glycol solution etc
연결 크기	ZG1/2	ZG1/2	ZG3/4	ZG3/4	ZG3/4	ZG1	ZG1
Cooling water connection size	ZG1/2	ZG1/2	ZG3/4	ZG3/4	ZG1	ZG1	ZG1 1/8
냉각수 흐름 @20℃	1.2m³/H	1.6m³/H	2.6m³/H	3.6m³/H	5.5m³/H	7m³/H	10.2m³/H
치수 cm	9503801055	9503801055	9503801055	9804301400	9804301400	10806001500	10806001500
공정 온도 제어	The remote target temperature can be controlled by combining the self created model free self built tree algorithm and cascade algorithm

FLTZ -45℃～90℃

모델	FLTZ-402 FLTZ-402W	FLTZ-403 FLTZ-403W	FLTZ-404 FLTZ-404W	FLTZ-406 FLTZ-406W	FLTZ-408 FLTZ-408W	FLTZ-410 FLTZ-410W	FLTZ-415 FLTZ-415W
온도 범위	-45℃～90℃
온도 제어 정확도	±0.05℃（Steady state outlet temperature）
흐름 제어	10～25L/min 5bar max		15～45L/min 5bar max			25～75L/min 5bar max
난방	Using compressor heating, prevent condenser frosting technology
Cooling capacity @-35℃	1kW	1.4kW	1.8kW	2.5kW	3.3kW	5kW	8kW
Internal circulating fluid volume	4L	5L	6L	8L	10L	12L	20L
확장 탱크 용량	10L	10L	15L	15L	20L	25L	35L
냉매	R404A
Refrigerating medium	Silicone oil, fluorinated liquid, glycol solution etc
연결 크기	ZG1/2	ZG1/2	ZG3/4	ZG3/4	ZG3/4	ZG1	ZG1
Cooling water connection size	ZG1/2	ZG3/4	ZG3/4	ZG1	ZG1	ZG1	ZG1 1/8
냉각수 흐름 @20℃	1.5m³/H	2.4m³/H	3.5m³/H	5m³/H	5.5m³/H	6m³/H	8m³/H
치수 cm	9503801055	9503801055	9503801055	9804301400	9804301400	10805001500	10805001500
공정 온도 제어	The remote target temperature can be controlled by combining the self created model free self built tree algorithm and cascade algorithm

FLTZ -80℃~+90℃

모델	FLTZ-803W	FLTZ-805W	FLTZ-806W	FLTZ-808W	FLTZ-810W
온도 범위	-80℃～+90℃
온도 제어 정확도	±0.05℃（Steady state outlet temperature）
흐름 제어	7～25L/min 5bar max		12～45L/min 6bar max
Cooling capacityat-70℃	0.6kW	1kW	1.5kW	2kW	3kW
난방 용량	2kW	2kW	2kW	3.5kW	3.5kW
Internal circulating fluid volume	4L	5L	6L	8L	10L
확장 탱크 용량	10L	10L	15L	15L	20L
Heat-conduction medium	불소화 액체
연결 크기	ZG1/2	ZG1/2	ZG3/4	ZG3/4	ZG3/4
Cooling water connection size	ZG3/4	ZG3/4	ZG3/4	ZG1	ZG1
Cooling water@20℃	1.8m3/h	2.5m3/h	3m3/h	5m3/h	6m3/h
회로 차단기	25A	25A	32A	40A	50A
치수 cm	5507001750	6508501850	7008501850	7008501850	80012001850
공정 온도 제어	The remote target temperature can be controlled by combining the self created model free self built tree algorithm and cascade algorithm

FLTZ -100℃～+90℃

모델	FLTZ-1002W	FLTZ-1004W
온도 범위	-100℃～+90℃
온도 제어 정확도	±0.05℃（Steady state outlet temperature）
흐름 제어	7~25L/min	12~45L/min
Cooling capacityat-90℃	1.5kW	3kW
난방 용량	3.5kW	5.5kW
Internal circulating fluid volume	5L	8L
확장 탱크 용량	10L	15L
Heat-conduction medium	불소화 액체
연결 크기	ZG3/4	ZG3/4
Cooling water connection size	ZG3/4	ZG1
Cooling water@20℃	50L/min 2bar~7bar	100L/min 2bar~7bar
회로 차단기	32A	63A
공정 온도 제어	The remote target temperature can be controlled by combining the self created model free self built tree algorithm and cascade algorithm

Product Advantages

효율적인 생산 안정성 및 반복성 결과;
판형 열교환기와 파이프라인 히터를 사용하여 냉각 및 난방 속도를 개선합니다;
매우 넓은 온도 범위로 액체 매체를 교체할 필요가 없습니다;
완전 밀폐형 시스템으로 열 전도성 액체의 수명을 연장합니다;
마그네틱 드라이브 펌프를 채택하여 샤프트 씰 누수 문제가 없습니다;
고온 냉각 기술, 압축기를 직접 시동하여 300℃에서 냉각합니다.

애플리케이션

반도체 FAB 공정의 온도 제어 장치

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Such as chillers that control the processing temperature on the Fab equipments.

Cooling of CMOS/CCD sensors in semiconductor metrology systems.

Recirculating Chiller for semiconductor metering AOI system.

주로 에칭 장비용으로 설계된 단일 채널 공랭식 쿨러입니다. 챔버 측벽에 독립적인 온도 제어를 제공하는 데 사용됩니다.

Used for plasma bevel etch and deposition; Thermal Atomic Layer Etching of Metal Tungsten.

가변 주파수 펌프는 순환 유압 및 유량을 조절할 수 있습니다.

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