Heat Exchange Chiller (Semiconductor temperature control )

ETCU 5℃~90℃

고정밀 냉열 냉각기

냉각 냉각기 반도체 냉각기

Temp Range: +5℃~90℃ ±0.3℃

Cooling Capacity: 5kw~30kw

Tank volume: 6L~15L

Power: 06KW~1.6KW

문의

반도체 생산 및 테스트 공정의 온도 제어

40 ℃ 이내의 가열 방식은 압축기 고온 가스 가열 완전 밀폐형 설계를 채택하고 기계는 24 시간 동안 연속적으로 작동합니다.

프론트엔드에서 백엔드까지 전체 반도체 공정 흐름을 안정적이고 신뢰성 있게 보장합니다.

구성 세부 정보

모델	ETCU-005W	ETCU-015W	ETCU-030W	ETCU-050W	ETCU-100W	ETCU-200W	ETCU-300W
온도 범위	Cooling water temperature +5℃~90℃
온도 제어 정확도	±0.05℃ (outlet temperature steady state)
냉각수 온도	7℃~30℃ 지멘스/허니웰 조절 밸브를 사용하여 냉각수 흐름을 제어합니다.
냉각 용량	5kw	15kw	30kw	50kw	100kw	200kw	300kw
Circulating pump flow	Test conditions: At maximum circulation, the temperature difference between the control temperature and the cooling water temperature is 15°C
Storage tank volume	7~20L/min 5bar	15~40L/min 5bar	20~60L/min 5bar	40~110L/min 5bar	150~250L/min 5bar	250~500L/min 5bar	400~650L/min 5bar
치수	5L	10L	20L	30L	60L	120L	240L
치수	480750390	480750390	480750500	Customization	Customization	Customization	Customization

제품 설명

반도체 온도 제어 장치인 칠러는 주로 반도체 생산 및 테스트 공정에서 정밀한 온도 제어를 위해 사용됩니다. 불소계 액체 온도 제어(최소 -100도), 가스 냉난방 급속 온도 변화, 급속 온도 변화 척, 저온 가스 냉동기(-120도), 직접 냉각 냉동 장치(-150도) 등의 제품을 생산하고 있습니다. 시스템에 다양한 알고리즘(PID, 피드포워드 PID, 모델 프리 자체 구축 트리 알고리즘)을 적용하여 빠른 응답과 높은 제어 정확도를 실현합니다.

냉각기의 배기 및 흡입 온도(압력), 응축 온도, 냉각수 온도(압력), 입구 및 출구 액체(가스) 온도(압력), 전력, 각 부품의 전류 및 전압, 물 탱크 수위 등 중요한 정보는 모두 제어 시스템에 연결된 센서를 통해 종합적으로 관리, 모니터링, 기록됩니다.

주요 응용 분야는 반도체 생산 공정 및 테스트 공정에서 온도를 정확하게 제어하는 것입니다.

가열 방식은 40°C 이내이며 압축기 고온 가스를 사용하여 농축액을 가열합니다.

순환 시스템은 완전 밀폐형 설계를 채택하고 순환 펌프는 자기 구동 펌프를 채택합니다.

암모니아 테스트 및 안전 테스트를 통해 시스템 안전성, 신뢰성 및 번영을 보장합니다;

복사기를 24시간 연속으로 실행한 후

반도체 공정에서 온도 제어의 적용 시나리오

Fab 장비의 처리 온도를 제어하는 냉각기

주로 에칭 장비용으로 설계된 단일 채널 공랭식 쿨러입니다. 챔버 측벽에 독립적인 온도 제어를 제공하는 데 사용됩니다.

애플리케이션

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