LTS -20℃~80℃

2023-05-17 1512

반도체 제조 공정에서 반응 챔버의 온도, 방열판의 온도 및 열전달 매개체의 불연성 유체의 온도 제어를 제어하기 위해 널리 사용됩니다 ...

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LTS -40℃~80℃

2023-05-17 1620

It is widely used in the semiconductor manufacturing process to control the temperature of the reaction chamber, the temperature of the heat sink, and the temperature control of the non-flammable fluid of the heat transfer...

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LTS -60℃~80℃

2023-05-17 1554

반도체 제조 공정에서 반응 챔버의 온도, 방열판의 온도 및 열전달 매개체의 불연성 유체의 온도 제어를 제어하기 위해 널리 사용됩니다 ...

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LTS -80℃~80℃

2023-05-17 1559

반도체 제조 공정에서 반응 챔버의 온도, 방열판의 온도 및 열전달 메스의 불연성 유체의 온도 제어를 제어하기 위해 널리 사용됩니다 ...

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