반도체

빠른/안정적/정온

반도체 생산의 다양한 공정을 정밀하게 온도 제어합니다. 매우 얇은 층을 적용하고, 부분적으로 마스킹하고, 노출되지 않은 부품을 거의 무제한의 개별 단계에서 절대적으로 정밀하게 제거할 수 있습니다. 습식 화학 공정에서 에칭 속도를 일정하고 예측 가능하게 유지하려면 에칭 배스를 최적의 온도 범위 내에서 유지해야 합니다. 이를 위해서는 절대적으로 정밀하고 신뢰할 수 있는 온도 제어 솔루션을 사용해야 합니다.

웨이퍼 및 마이크로칩의 습식 화학 제조를 위한 에칭 배스의 온도 제어. 그 외에도 Galden 또는 FC77과 같은 비전도성 열 유체를 사용하는 전기 및 전자 부품과 기능 그룹의 기능 및 재료 테스트에도 적용됩니다. 완벽하게 균형 잡힌 온도 제어 시스템은 생산 결과를 개선할 뿐만 아니라 공정 신뢰성을 높이고 생산 시간, 비용 및 유지보수를 줄여줍니다.

TES-NM65NT |

테스트 챔버 포함 |

온도 제어 범위: -60℃~200℃

난방 전력: 5.5kW

냉각 전력: 1.2kW~5.5kW

최대 전력: 12kW

유형 수냉식 냉각기 / 공냉식 냉각기

SUNDI-15W |

칩 테스트용 |

온도 제어 범위: -100℃~200℃

난방 전력: 5.5kW

냉각 전력: 1.2kW~5.5kW

최대 전력: 12kW

유형 공냉식 냉각기

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