산업용 온도 제어 솔루션
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동적 온도 제어 장치

냉난방 온도 제어 시스템은 우수한 성능, 고정밀 지능형 온도 제어, -120°C에서 350°C에 이르는 매우 넓은 온도 제어 범위를 갖추고 있어 대부분의 기업의 항온 제어 요구에 적합합니다.

다양한 모델이 있습니다: SUNDI 시리즈, WTD 시리즈, KRY 시리즈, LTS 시리즈 등 다양한 모델이 있습니다. 제품의 온도 제어 정확도는 ±0.1°C에 달하며, 해당 제품은 냉동 전력 0.5kW~1200kW까지 제공 가능합니다.

제품 문의 WhatsApp 086 13912479193 이메일 sales@cnzlj.com

장점

  • 냉각 전력 0.5kW~1200kW
  • 난방 전력 2kW~200kW
  • 고정밀, 지능형 온도 제어
  • 다기능 경보 시스템 및 안전 기능
  • 7인치, 10인치 컬러 TFT 터치 스크린 그래픽 디스플레이
  • 마그네틱 드라이브 펌프를 사용하면 샤프트 씰 누출 문제가 없습니다.
  • 300°C에서 직접 냉각할 수 있는 고온 냉각 기술
  • 효율적인 생산 안정성 및 재현 가능한 결과
  • 완전 밀폐형 시스템, 액체 매체를 교체할 필요가 없음

모델 유형

냉난방 시스템(SUNDI 시리즈)

온도 제어 범위: -120°C ~ +350°C

응용 분야: 다양한 반응기(마이크로채널, 유리, 재킷형 반응기 등), 증류 또는 추출 시스템, 실험실, 대학, 연구소, 항공우주, 자동차 산업, 반도체 및 전기 테스트, 화학, 제약, 석유화학, 생화학, 의료, 병원, R&D 작업장, 항공우주, 생물학 및 기타 산업.

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냉각 및 난방 시스템(WTD 시리즈)

(마이크로 채널/튜브 리액터 전문)

온도 제어 범위: -70°C ~ +300°C

마이크로 채널에 특화된 설계(작은 액체 보유 용량, 강력한 열 교환 용량, 순환 시스템 고압 강하)

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냉각 및 난방 시스템(불소화 액체 LTS 시리즈)

온도 제어 범위: -80°C ~ +80°C

반도체 공정에서 반응 챔버, 방열판 및 불연성 열전달 매체의 온도를 제어하기 위해 널리 사용됩니다.

  • LTS -20℃~80℃" /&gt;<figcaption><span>유량 제어12L/min~45L/min내부 순환 액체</span></figcaption></figure></a></div><div class= LTS -20℃~80℃

    유량 제어 12L/min~45L/min 내부 순환 액체

  • LTS -40℃~80℃" /&gt;<figcaption><span>반도체 제조 시 온도 제어유량 제어12L/min~45L/min온도 정확도±0.1℃ @40℃~-10℃</span></figcaption></figure></a></div><div class= LTS -40℃~80℃

    반도체 제조 중 온도 제어 유량 제어 12L/min~45L/min 온도 정확도 ±0.1℃ @40℃~-10℃

  • LTS -60℃~80℃" /&gt;<figcaption><span>유량 제어12L/min~45L/min온도 정확도±0.1℃ @-60℃~-30℃</span></figcaption></figure></a></div><div class= LTS -60℃~80℃

    유량 제어 12L/min~45L/min 온도 정확도 ±0.1℃ @-60℃~-30℃

  • LTS -80℃~80℃" /&gt;<figcaption><span>유량 제어12L/min~45L/min온도 정확도±0.1℃ @-60℃~-30℃</span></figcaption></figure></a></div><div class= LTS -80℃~80℃

    유량 제어 12L/min~45L/min 온도 정확도 ±0.1℃ @-60℃~-30℃

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냉각 및 난방 서큘레이터

온도 제어 범위: -45°C ~ +250°C

응용 분야: 다양한 반응기(마이크로채널, 유리, 재킷형 반응기 등), 증류 또는 추출 시스템, 실험실, 대학, 연구소, 항공우주, 화학, 제약, 석유화학, 생화학, 의료, 병원, R&D 작업장, 항공우주, 생물학 및 기타 산업.

  • HR -25℃~200℃" /&gt;<figcaption><span>난방 전력2.5kW~15kW냉각 용량1kW~15kW전력 범위4kW~21kW</span></figcaption></figure></a></div><div class= HR -25℃~200℃

    난방 전력 2.5kW~15kW 냉각 용량 1kW~15kW 전력 범위 4kW~21kW

  • HRT -45℃~250℃" /&gt;<figcaption><span>난방 전력2.5kW~15kW냉각 용량0.25kW~15kW전력 범위4.5kW~25kW</span></figcaption></figure></a></div><div class= HRT -45℃~250℃

    난방 전력 2.5kW~15kW 냉각 용량 0.25kW~15kW 전력 범위 4.5kW~25kW

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TCU 온도 제어 장치

(제약 및 화학 작업장 생산 수준)

온도 제어 범위: -120°C ~ +250°C

적용 분야: 화학, 제약, 석유화학, 생물학 및 기타 산업, 중국식 작업장 및 제약 및 화학 공장 생산을 위한 다양한 원자로, 증류기, 추출 시스템, 발효 탱크 등과 같은 대규모 생산 수준의 온도 제어 요구 사항.

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원칙

특별히 설계된 지연 추정기(모델 없는 자가 구축 트리 알고리즘)는 피드백 신호로 프로세스 변수 y(t) 대신 동적 신호 yc(t)를 생성합니다. 컨트롤러에 e(t) 신호를 생성하여 컨트롤러가 제어 효과를 예측할 때 큰 히스테리시스를 갖지 않도록 하여 컨트롤러가 항상 적절한 제어 신호를 생성할 수 있도록 합니다. 즉, 이 동적 신호 yc(t)는 큰 지연이 있더라도 피드백 루프가 정상적으로 작동하도록 유지할 수 있습니다.

애플리케이션

  1. 고압 반응기의 동적 온도 제어
  2. 이중층 유리 반응기의 동적 온도 제어
  3. 이중층 반응기의 동적 온도 제어
  4. 마이크로채널 반응기 온도 제어
  5. 증류 시스템 온도 제어
  6. 저온 및 고온에서의 재료 노화 테스트
  7. 조합형 화학 항온 제어
  8. 반도체 장비 냉각 및 가열
  9. 진공 챔버 냉각 및 가열 제어

고객 서비스 영역

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