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산업용 / 실험실용 -115℃ ~ 90℃
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| 반응기 | 발효 탱크 | 마이크로 반응기 | 관형 반응기 |
|---|---|---|---|
| 진공 챔버 | 동결 건조기 | 다상 반응기 | 타워형 반응기 |
| 산업용 오일 처리 | 가스 크로마토그래프 | 로타리 증발기 | 파일럿 플랜트 |
| 주사용수 시스템 | 제약용수 시스템 | 중화 반응 | 분해 반응 |
| 산화 반응 | 중합 반응 | 결정화 반응 | 발효 반응 |
| 오일 분해 | 농축 반응 | 추출 시스템 | 레이저 장비 |
| CNC 냉각 | 실험실 테스트 | 반도체 제조 장비 | AOI 시스템 CMOS/CCD |
| 공작 기계 | 냉각탑 | 배터리 테스트 냉각 | 실험실 연구 |
| ATE | 화학 공정 냉각 | MRI | CO2 장비 |
| LTZ series | -40℃~90℃ | 5℃~30℃ | -25℃~30℃ | -45℃~20℃ | -60℃~-30℃ | -80℃~-50℃ | -115℃~-80℃ |
| 냉각 용량 | 0.7KW~11.5KW | 23KW~300KW | 7KW~117.5KW | 2.85KW~61.56KW | 4.9KW~93.2KW | 3.7KW~78.5KW | 0.6KW~2.8KW |
| 가열 출력 | 2.5kW~10KW | ||||||
| 온도 제어 정밀도 | ±0.3℃ | ±0.3℃ | ±0.3℃ | ±0.3℃ | ±0.3℃ | ±0.3℃ | ±0.3℃ |
| LT series | -25℃~30℃ | -45℃~30℃ | -60℃~-30℃ | -80℃~-40℃ | |
| 냉각 용량(-15℃) | 1.5kw~5kw@-15℃ | 0.7kw~2.5kw@-35℃ | 1.3kw~4.8kw@-40℃ | 0.7kw~2.5kw@-60℃ | |
| 순환 펌프 유량(최대) | 30L/min 1.6bar | ||||
| 냉매 | R-404A / R507C | R-404A / R507C | R-404A/R23 | R-404A/R23 | |
| 온도 제어 정밀도 | ±0.5℃ | ||||
| Model | KRY -20℃~+100℃ | KRY -40℃~+100℃ | KRY -20℃~+100℃ 6S | KRY -40℃~+100℃ 6S | KRY -40℃~+100℃ 2T | KRY 0℃~+100℃ | KRY 0℃~+100℃ 6S | KRY -40℃~+100℃ 2T |
| 온도 제어 정밀도 | ±0.3℃ | |||||||
| 유량 정밀도 | ±0.2 L/min | |||||||
| 가열 용량 | 5.5KW~38KW | 5.5KW~60KW | 15KW~38KW | 15KW~38KW | 7.5KW*2~38KW*2 | 2.5KW~38KW | 15KW~38KW | 2.5KW*2~38KW*2 |
| 냉각 용량 | 2.8KW~38KW | 1.2KW~60KW | 10KW~60KW | 5KW~60KW | 1.8KW*2~60KW*2 | 1.8KW~60KW | 18KW~60KW | 1.8KW*2~60KW*2 |
| 전원 380V 50Hz | 11KW~45KW | 10KW~84KW | 36KW~75KW | 38KW~82KW | 28KW~158KW | 4.5KW~61KW | 38KW~82KW | 9KW~120KW |
| FLTZ series | 5℃~90℃ | -25℃~90℃ | -45℃~90℃ | -100℃~+90℃ |
| 온도 제어 정밀도 | ±0.05℃ | ±0.05℃ | ±0.05℃ | ±0.05℃ |
| 냉각 용량 | 6KW~40KW @10℃ | 2KW~15KW @-15℃ | 1KW~8KW @-35℃ | 1.5KW~3KW @-90℃ |
| 냉각수 유량 (20℃) | 1.5m³/h~9m³/h | 1.2m³/H~10.2m³/H | 1.5m³/H~8m³/H | 50L/min~100L/min |
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온도 제어: -120℃ ~ 350℃
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차량 품질 시험을 위한 온도 시뮬레이션: 배터리 수명 시험, 연료 인젝터/모터 시험 벤치, 에어백 시험, 부품 시험 벤치 등. 이는 항온항습 챔버 내에서 외부 환경 조건을 모사하거나 내부 시스템을 대체함으로써, 시험 벤치에 필요한 실제 온도 조건을 조성할 수 있습니다.

온도 제어: -85℃ ~ 250℃
반도체 공정 습식 세정, 포토리소그래피, 식각, 화학 기상 증착(CVD), 물리 기상 증착(PVD) 및 전자 산업(포토리소그래피 공정)에 적합합니다.

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