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In the semiconductor packaging testing process, especially in the temperature control process of the sorting machine (test probe station), the use of chillers is mainly based on the following reasons: Temperature stability and accuracy...
세부 정보 보기화학 기상 증착(CVD): CVD 공정에서는 다중 채널 냉각기를 사용하여 반응 챔버 벽, 열교환기 및 가스 예열 교환기를 냉각하여 안정적인 반응 챔버 온도를 유지하여 정밀한 제어를 보장합니다.
세부 정보 보기The chip lead bonding process indeed requires precise temperature control, so temperature control systems are usually equipped to ensure process stability and yield. The following are the importance and application scenarios of temperature con...
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모델 FLTZ-305W FLTZ-305W/2T 이중 시스템 온도 범위 -30℃~40℃ -30℃~40℃ -30℃~40℃ 온도 제어 정확도 ±0.1℃ ±0.1℃ ±0.1℃ 유량 제어 15～45L/min ±0.3 15～45L/min ±0.3 15～45L/min ±0.3 펌프 압력 6bar m...
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Model FLT-402 FLT-402W FLT-403 FLT-403W FLT-404 FLT-404W FLT-406 FLT-406W FLT-408 FLT-408W FLT-410 FLT-410W FLT-415 FLT-415W Temp Control -45℃～40℃ Temp control accuracy ±0.1℃ Flow Control 10～25L/min 5bar max 15～45L/m...
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40 ℃ 이내의 가열 방식은 압축기 고온 가스 가열 완전 밀폐형 설계를 채택하고 기계는 24 시간 연속 작동 주로 반도체 생산의 정밀한 온도 제어에 사용됩니다.
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온도 범위 : + 5 ℃ ~ 90 ℃ ± 0.3 ℃ 냉각 용량 : 5kw ~ 30kw 탱크 용량 : 6L ~ 15L 전력 : 06KW ~ 1.6KW 40 ℃ 이내의 가열 방식은 압축기 고온 가스 가열 완전 밀폐 설계를 채택하고 기계는 작동합니다 ...
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40 ℃ 이내의 가열 방식은 압축기 고온 가스 가열 완전 밀폐형 설계를 채택하고 기계는 24 시간 연속 작동 반도체 온도 제어 장치 칠러는 주로 ...
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LNEYA 산업용 냉각기 제조업체 공급 업체
